磁控濺射鍍膜儀

廠家：美國TM公司

型號(hào)：JS-20

主要性能參數(shù)：

鍍膜室尺寸：φ700×700 mm；

極限真空：8×10^-8Pa；

直流穩(wěn)壓電源：N≦5000W,，四臺(tái),；

直流偏壓電源：N≦200W，-200V,；

氣路流量：0~200SCCM兩路,，0~10SCCM一路

靶數(shù)：3靶

基體背面加熱溫度：900℃

磁控濺射鍍膜特點(diǎn)：

成膜速率高,，基片溫度低,，膜的粘附性好,，可實(shí)現(xiàn)大面積鍍膜，膜層質(zhì)量好,，可重復(fù)性好,，便于產(chǎn)業(yè)化生產(chǎn)等優(yōu)點(diǎn)。

應(yīng)用領(lǐng)域：

可在金屬,、玻璃,、陶瓷基片上鍍膜，主要體現(xiàn)在以下幾個(gè)方面：

1,、制備耐磨損薄膜,；

2、制備硬質(zhì)膜,；

3,、制備超硬膜；

4,、制備固體潤滑膜,；

5、制備光電功能薄膜,。

收費(fèi)標(biāo)準(zhǔn)：